MIC-1350-DSN-L
日本真空龍(Shincron)為真空鍍膜生產設備之翹楚,其所生產之高精密離子輔助光學鍍膜系統MIC1350系列,可用於AR(抗反射膜),DBR(布拉格反射鏡)及ODR(全方向反射鏡)等製程.可應用於光學業,發光二極體,觸控面板及太陽能等產業上之產品生產。
Feature
1. 透過Shincron自主設計製造之光學膜厚計的控制下,鍍膜之非均勻性
小於+/-1%使其由Shincron自有的IAD(離子輔助鍍膜系統)所提供的離子
電流可110uA/cm2,促使分子更分散,膜質更緻密且折射率穩定。
2. TiO2的折射率可達2.4以上
3. SiO2吸收係數可低於1E-4
4. ODR鍍膜時間(由關腔門至開腔門及含Al鍍膜)低於180分鐘
5. DBR鍍膜時間(約15對SiO2/TiO2,由關腔門至開腔門)低於180分鐘
6. 2”晶圓月產能可達5.5萬片
