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P-300B 12吋晶圓級批量式原子層沉積系統
PICOSUN™ 原子層沉積(ALD)系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米)的晶片、三維物體,以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置,以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。
Feature
1. 100% 薄膜覆蓋率 2. 精確的膜厚控制 3. 完美的膜厚均勻性 4. 無孔隙薄膜 5. 可再現性製程 6. 低製程溫度 7. 混合材料或奈米分層多層膜
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