R-200 Standard 標準型熱化反應式原子層沉積系統

PICOSUN™ 原子層沉積(ALD)系統專門針對研究、生產、生產研發和試生產進行優化。用途廣泛的反應器設計使2吋至18吋(50毫米至450毫米)的晶片、三維物體,以及多孔基片上均可進行沉積。反應器腔體採用抗腐蝕性工藝材料。輔助配件可以透過安裝各種反應前趨物、不同尺寸的反應器腔體和手動、自動化基板進樣裝置,以及臭氧、氮氣或電漿產生器等來進行設備升級。

Feature

1. 100% 薄膜覆蓋率
2. 精確的膜厚控制
3. 完美的膜厚均勻性
4. 無孔隙薄膜
5. 可再現性製程
6. 低製程溫度
7. 混合材料或奈米分層多層膜