RAS-1100C 雙槽式濺射成膜裝置

Feature

系采用了本公司自主研發的RAS法(Radical Assisted Sputtering:
激化輔助濺鍍法)的小型候選機型,實現了在低温下以良好的再現性制造波長稳定的高品質光學薄膜,以及包括裝飾膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。