真空鍍膜設備領導品牌
Shincron MIC-1350-DSN-L
日本真空龍 (Shincron) 為真空鍍膜生產設備之翹楚。MIC1350 系列高精密離子輔助光學鍍膜系統，專為 AR (抗反射膜)、DBR (布拉格反射鏡) 及 ODR (全方向反射鏡) 製程打造。優異的性能廣泛應用於光學、LED、觸控面板及太陽能等高科技產業，提供穩定的量產解決方案。
Feature | 技術規格與亮點
精密膜厚與離子輔助 自主研發光學膜厚計控制，實現非均勻性 < +/-1%。IAD 系統提供 110uA/cm² 離子電流，確保膜質更緻密且折射率穩定。
TiO₂ 高折射率性能 具備卓越的成膜品質，TiO₂ 的折射率可穩定達到 2.4 以上。
極低 SiO₂ 吸收係數 精密製程控制，確保 SiO₂ 吸收係數可低於 1E-4，滿足高透明度需求。
高效 ODR 鍍膜製程 完整 ODR 鍍膜循環（含關腔至開腔及 Al 鍍膜）時間低於 180 分鐘。
快速 DBR 鍍膜產速 約 15 對 SiO₂/TiO₂ 之 DBR 鍍膜製程，循環作業時間低於 180 分鐘。
卓越之月產能表現 針對 2 吋晶圓之月產量表現優異，最高可達 5.5 萬片。