RAS-1100C 雙槽式濺射成膜裝置
RAS-1100C 是一款基於本公司專利 RAS 法（Radical Assisted Sputtering：激化輔助濺鍍法）的小型高效能機型。此裝置專為精密光學元件與功能性薄膜開發而優化，能在極低溫的製程環境下，以卓越的再現性製造波長極其穩定的高品質光學膜層。其緊湊的雙槽式設計，不僅適用於高品質氮化膜與功能性裝飾膜之量產，更是試生產與工藝研發的理想選擇。
核心技術優勢
01
自主研發 RAS 濺鍍技術 透過激化輔助機制，顯著提升膜層緻密度與光學純淨度。
02
卓越的低溫成膜特性 有效降低熱應力影響，適用於對溫度敏感的精密基板與薄膜。
03
波長高穩定性控制 精確調控光學厚度，確保成膜後光譜波長具備極高的一致性。
04
高再現性生產工藝 穩定的放電系統設計，確保跨批次生產仍能維持相同的膜層性能。
05
高品質光學薄膜製造 專為抗反射（AR）、濾光片等高端光學應用所開發。
06
精密氮化膜成膜能力 支援硬質氮化膜製程，提供卓越的表面耐磨損與功能性防護。
07
多功能裝飾膜沉積 靈活調整工藝參數，實現兼具美觀與耐候性的高品質裝飾鍍膜。
08
小型化雙槽式架構 兼顧研發靈活性與試產效率，提供最佳的空間利用率與投資效益。